微电子学院举办第928期阳光论坛 探讨原子尺度下材料缺陷之美

12月26日上午，武汉纺织大学第928期阳光论坛在阳光校区行政楼115会议室顺利举行。本期论坛由微电子学院主办，特邀奥地利科学院资深研究员张灶利作题为《原子尺度下洞悉材料的结构和性能关系——缺陷是一种美》的学术报告。微电子学院教师、研究生及部分本科生参加了论坛。论坛由微电子学院副院长（主持工作）何云斌教授主持。

在学术报告中，张灶利研究员围绕材料微观结构表征这一前沿研究方向，系统阐述了在原子尺度下深入认识材料结构—性能关系的重要科学意义。他以先进的透射电子显微镜为核心手段，结合长期研究成果和典型实例，深入剖析了材料中空位、位错、界面、晶界等多种缺陷结构的形成机理及其对材料力学性能、物理性能等宏观性质的关键影响。张灶利指出，材料缺陷并非传统意义上的“瑕疵”，而是调控材料性能、实现功能优化的重要结构单元，并从独特视角诠释了“缺陷是一种美”的科学内涵。在报告最后，他还围绕原子分辨电子显微技术的发展趋势及其在材料研究中的应用前景进行了阐释与展望。报告内容深入浅出、案例翔实，引发了在场师生的浓厚兴趣。

当天下午，张灶利研究员在微电子学院班子成员陪同下参观了学校纺织科技馆。

本期阳光论坛的成功举办，进一步拓宽了师生在材料微结构表征与材料缺陷结构—性能关系研究方面的学术视野，对提升学校在材料研究方面的科研水平、营造良好学术氛围起到了积极推动作用，也进一步促进了学校与国外高水平科研团队之间的学术交流与合作。